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「光自潔技術」是一項專利技術,原理是通過納米摻雜技術對納米光催化劑進行了改性,改變了晶格和能帶間隙,在可見光,例如日光、室內光、紫外光等條件下實現了較高的光催化性能,提高效能。

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